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版图画的是矩形,硅片上为什么变圆角?光刻光学邻近效应与 OPC 修正

从成像低通滤波与光刻胶阈值响应出发,解释为什么硅片上的图形与 GDS 版图不一致,以及 OPC 如何用规则表与迭代仿真做反向补偿。
2026-08-06
半导体与微纳制造
#半导体 #光刻 #版图 #OPC #光学邻近效应 #计算光刻

浸没式光刻机介绍

介绍浸没式光刻机:从 CD=k1·λ/NA 与 NA=n·sinθ 出发,说明 193 nm 浸没式光刻如何用超纯水把数值孔径推过 1,以及景深、水纯度、气泡与偏振等工程代价。
2026-08-06
半导体与微纳制造
#光学 #半导体 #光刻 #浸没式光刻 #数值孔径 #193nm

从物镜到芯片:超表面光镊如何“抓住”微粒

上一篇讲清了光镊为什么能夹住微粒;这篇深入超表面方案——如何用一片亚波长结构替代高数值孔径物镜,把光镊搬上芯片,以及 2024–2026 年超表面光镊阵列在量子计算领域的爆发。
2026-08-05
光学与光子学
#光学 #超表面 #纳米光子学 #量子计算 #光镊

为什么伴随方法让纳米光子逆向设计从逐个模拟变成一次算完?

2026-08-05
光学与光子学
#光学仿真 #拓扑优化 #纳米光子学 #伴随方法 #逆向设计

超表面逆向设计:伴随方法如何让光子器件自动进化

2026-08-05
光学与光子学
#超表面 #拓扑优化 #伴随方法 #逆向设计 #光子器件
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