版图画的是矩形，硅片上为什么变圆角？光刻光学邻近效应与 OPC 修正
从成像低通滤波与光刻胶阈值响应出发，解释为什么硅片上的图形与 GDS 版图不一致，以及 OPC 如何用规则表与迭代仿真做反向补偿。
从物镜到芯片：超表面光镊如何“抓住”微粒
上一篇讲清了光镊为什么能夹住微粒；这篇深入超表面方案——如何用一片亚波长结构替代高数值孔径物镜，把光镊搬上芯片，以及 2024–2026 年超表面光镊阵列在量子计算领域的爆发。
为什么伴随方法让纳米光子逆向设计从逐个模拟变成一次算完？
引言：当设计空间里有数百万个参数在设计一个纳米光子器件——比如将光从一根波导高效耦合到另一根波导的转换器——设计师通常要确定的不仅仅是几个结构参数，而是设计域中每个位置的材料配置。在拓扑优化中，设计域被离散成数十万甚至数百万个网格像素，每个像素决定这里放材料还是不放材料。这种自由度带来的问题很直接：如何高效地寻找最优配