文献解读 | High-NA EUV 光刻的同轴四镜投影器：一种消除掩模 3D 效应的方案（arXiv 2025）

半导体与微纳制造
#光学设计 #半导体 #文献解读 #EUV 光刻 #High-NA #掩模 3D 效应
文献解读 | High-NA EUV 光刻的同轴四镜投影器：一种消除掩模 3D 效应的方案（arXiv 2025）
https://time-frame.cloud/2026/08/13/2026-08-13-high-na-euv-lithography/
作者
Time Frame
发布于
2026年8月13日
许可协议